В брошюре рассмотрены основные процессы в камерах электрофизических установок и комплексов, определяющие требования к их вакуумным параметрам. Описаны закономерности взаимодействия нейтрального газа с ускоренными пучками заряженных частиц и высокотемпературной водородной плазмой; процессы десорбции газовых молекул со стенок под воздействием корпускулярного и электромагнитного излучения; механизмы формирования и методы управления примесями в термоядерной плазме; электрические и электродинамические явления в вакуумных камерах. Обоснованы типичные вакуумные параметры электронных и ионных ускорителей, ускорительно-накопительных комплексов, столкновителей, термоядерных установок и реакторов.