Главная    Ex Libris    Книги    Журналы    Статьи    Серии    Каталог    Wanted    Загрузка    ХудЛит    Справка    Поиск по индексам    Поиск    Форум   
blank
Авторизация

       
blank
Поиск по указателям

blank
blank
blank
Красота
blank
Ohmi T. — Scientific Wet Process Technology for Innovative LSI/FPD Manufacturing
Ohmi T. — Scientific Wet Process Technology for Innovative LSI/FPD Manufacturing

Читать книгу
бесплатно

Скачать книгу с нашего сайта нельзя

Обсудите книгу на научном форуме



Нашли опечатку?
Выделите ее мышкой и нажмите Ctrl+Enter


Название: Scientific Wet Process Technology for Innovative LSI/FPD Manufacturing

Автор: Ohmi T.

Аннотация:

Ohmi (New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku U., Japan) presents 10 chapters that introduce radical-reaction-based and wet process technologies for manufacturing large-scale integrated (LSI) semiconductors and flat panel displays (FPD). Ohmi first introduces the topic of surface chemical electronics at the semiconductor survey. The following chapters address the principles of semiconductor device wet cleaning, high-performance wet cleaning technology, etching of SiO2, silicon etching, chemical composition control technology, wet vapor resist stripping technology, antistatic technology, chemical waste reclamation technology, and advanced ultrapure water and liquid chemical supply systems and materials for a fluctuation-free facility.


Язык: en

Рубрика: Технология/

Статус предметного указателя: Неизвестно

ed2k: ed2k stats

Год издания: 2006

Количество страниц: 386

Добавлена в каталог: 31.01.2010

Операции: Положить на полку | Скопировать ссылку для форума | Скопировать ID
blank
Предметный указатель
blank
Реклама
blank
blank
HR
@Mail.ru
       © Электронная библиотека попечительского совета мехмата МГУ, 2004-2017
Электронная библиотека мехмата МГУ | Valid HTML 4.01! | Valid CSS! О проекте