Обсудите книгу на
Нашли опечатку?
Выделите ее мышкой и нажмите Ctrl+Enter
|
Название: Silicon Technologies: Ion Implantation and Thermal Treatment
Автор: Baudrant A.
Аннотация:
Content:
Chapter 1 Silicon and Silicon Carbide Oxidation (pages 1–101): Jean?Jacques Ganem and Isabelle Trimaille
Chapter 2 Ion Implantation (pages 103–153): Jean?Jacques Grob
Chapter 3 Dopant Diffusion: Modeling and Technological Challenges (pages 155–207): Daniel Mathiot
Chapter 4 Epitaxy of Strained Si/Si1?x Gex Heterostructures (pages 209–331): Jean?Michel Hartmann
Язык: 
Рубрика: Разное/
Статус предметного указателя: Неизвестно
ed2k:
Год издания: 2011
Количество страниц: 347
Добавлена в каталог: 13.05.2017
Операции: Положить на полку |
Скопировать ссылку для форума | Скопировать ID
|
|
|
О проекте