Content:
Chapter 1 Allgemeine Grundlagen der Vakuumphysik (pages 1–14): Dr. rer. nat. Wolfgang Jorisch
Chapter 2 Vakuumerzeugung in der Chemischen Verfahrenstechnik: Abschnitte 2.1 ? 2.3 (pages 15–75): Dr. H. Grave and Dipl. Ing. K.H. Nikutta
Chapter 2 Vakuumerzeugung in der Chemischen Verfahrenstechnik: Abschnitte 2.4 ? 2.5 (pages 76–119): Dr. rer. nat. Wolfgang Jorisch and Dr. H. Grave
Chapter 2 Vakuumerzeugung in der Chemischen Verfahrenstechnik: Abschnitt 2.6 (pages 120–147): Dipl.?Ing. Univ. L.J. Ripper
Chapter 3 Vakuummessung und ?regelung sowie Lecksuche (pages 149–178): Dipl.?Phys. W.Gro?e Bley and Dipl.?Ing. Th. Froese
Chapter 4 Vakuumverfahrenstechnik: Abschnitte 4.1 ? 4.4 (pages 179–214): Dipl.?Ing. ETH F.E. Hoyer, Dr.?Ing. U. Hochberg, Dipl.?Ing. J. Oess and Dipl.?Ing. M. Tondar
Chapter 4 Vakuumverfahrenstechnik: Abschnitte 4.5 ? 4.6 (pages 214–251): Dipl.?Ing. M. Heldner and Dipl.?Ing. G. Hofmann
Chapter 4 Vakuumverfahrenstechnik: Abschnitte 4.7 ? 4.8.3 (pages 252–266): Dr.?Ing. D. Bethge and Dipl.?Ing. J. Zellmer
Chapter 4 Vakuumverfahrenstechnik: Abschnitte 4.8.4 ? 4.8.5 (pages 266–289): Dipl.?Ing. J. Zellmer
Chapter 4 Vakuumverfahrenstechnik: Abschnitte 4.9 ? 4.10 (pages 289–314): Dipl.?Ing. F. Tomasko and Dipl.?Ing. Th. Ramme