Главная    Ex Libris    Книги    Журналы    Статьи    Серии    Каталог    Wanted    Загрузка    ХудЛит    Справка    Поиск по индексам    Поиск    Форум   
blank
Авторизация

       
blank
Поиск по указателям

blank
blank
blank
Красота
blank
Sherman A. — Chemical Vapor Deposition for Microelectronics: Principles, Technology and Applications (Materials Science and Process Technology)
Sherman A. — Chemical Vapor Deposition for Microelectronics: Principles, Technology and Applications (Materials Science and Process Technology)

Читать книгу
бесплатно

Скачать книгу с нашего сайта нельзя

Обсудите книгу на научном форуме



Нашли опечатку?
Выделите ее мышкой и нажмите Ctrl+Enter


Название: Chemical Vapor Deposition for Microelectronics: Principles, Technology and Applications (Materials Science and Process Technology)

Автор: Sherman A.

Аннотация:

Presents an extensive, comprehensive study of chemical vapor deposition (CVD). Understanding CVD requires knowledge of fluid mechanics, plasma physics, chemical thermodynamics, and kinetics as well as homogenous and heterogeneous chemical reactions. This text presents these aspects of CVD in an integrated fashion, and also reviews films for use in integrated circuit technology.


Язык: en

Рубрика: Химия/

Статус предметного указателя: Неизвестно

ed2k: ed2k stats

Год издания: 1989

Количество страниц: 226

Добавлена в каталог: 18.09.2015

Операции: Положить на полку | Скопировать ссылку для форума | Скопировать ID
blank
Предметный указатель
blank
Реклама
blank
blank
HR
@Mail.ru
       © Электронная библиотека попечительского совета мехмата МГУ, 2004-2017
Электронная библиотека мехмата МГУ | Valid HTML 4.01! | Valid CSS! О проекте