Главная    Ex Libris    Книги    Журналы    Статьи    Серии    Каталог    Wanted    Загрузка    ХудЛит    Справка    Поиск по индексам    Поиск    Форум   
blank
Авторизация

       
blank
Поиск по указателям

blank
blank
blank
Красота
blank
Schmitz J.E.J. — Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications
Schmitz J.E.J. — Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications



Обсудите книгу на научном форуме



Нашли опечатку?
Выделите ее мышкой и нажмите Ctrl+Enter


Название: Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications

Автор: Schmitz J.E.J.

Аннотация:

This monograph condenses the relevant and pertinent literature on blanket and selective CVD of tungsten (W) into a single manageable volume. The book supplies the reader with the necessary background to bring up, fine tune, and successfully maintain a CVD-W process in a production set-up. Materials deposition chemistry, equipment, process technology, developments, and applications are described.


Язык: en

Рубрика: Химия/

Статус предметного указателя: Неизвестно

ed2k: ed2k stats

Год издания: 1993

Количество страниц: 251

Добавлена в каталог: 09.05.2014

Операции: Положить на полку | Скопировать ссылку для форума | Скопировать ID
blank
Предметный указатель
blank
Реклама
blank
blank
HR
@Mail.ru
       © Электронная библиотека попечительского совета мехмата МГУ, 2004-2024
Электронная библиотека мехмата МГУ | Valid HTML 4.01! | Valid CSS! О проекте