Главная    Ex Libris    Книги    Журналы    Статьи    Серии    Каталог    Wanted    Загрузка    ХудЛит    Справка    Поиск по индексам    Поиск    Форум   
blank
Авторизация

       
blank
Поиск по указателям

blank
blank
blank
Красота
blank
Tan C., Gutmann R., Reif L. — Wafer Level 3-D ICs Process Technology
Tan C., Gutmann R., Reif L. — Wafer Level 3-D ICs Process Technology



Обсудите книгу на научном форуме



Нашли опечатку?
Выделите ее мышкой и нажмите Ctrl+Enter


Название: Wafer Level 3-D ICs Process Technology

Авторы: Tan C., Gutmann R., Reif L.

Аннотация:

Wafer Level 3-D ICs Process Technology focuses on foundry-based process technology that enables the fabrication of 3-D ICs. The core of the book discusses alternative technology platforms for pre-packaging wafer level 3-D ICs, with an emphasis on wafer-to-wafer stacking. Driven by the need for improved performance, a number of companies, consortia and universities are researching methods to use short, monolithically-fabricated, vertical interconnections to replace the long interconnects found in 2-D ICs. Stacking disparate technologies to provide various combinations of densely-packed functions, such as logic, memory, MEMS, displays, RF, mixed-signal, sensors, and power delivery is potentially possible with 3-D heterogeneous integration, making this technology the "Holy Grail" of system integration.
Wafer Level 3-D ICs Process Technology is an edited book based on chapters contributed by various experts in the fields of wafer-level 3-D ICs process technology and applications enabled by 3-D integration.


Язык: en

Статус предметного указателя: Неизвестно

ed2k: ed2k stats

Год издания: 2008

Количество страниц: 365

Добавлена в каталог: 09.12.2013

Операции: Положить на полку | Скопировать ссылку для форума | Скопировать ID
blank
Предметный указатель
blank
Реклама
blank
blank
HR
@Mail.ru
       © Электронная библиотека попечительского совета мехмата МГУ, 2004-2024
Электронная библиотека мехмата МГУ | Valid HTML 4.01! | Valid CSS! О проекте